Действие электронного луча на кристаллы и пленки аминиевых и аммониевых солей

Аннотация

Представлены результаты исследования действия пучка электронов на кристаллы нитрило триацетата тетраметилэтилендиаминия [HMe2NCH2CH2NMe2H]2+[HN(CH2COOH)(CH2COO)2]–2, тетрагидрата гептамолибдата аммония (NH4)6Mo7O24 •4H2O, полимерного тригидрата нитрилотриметиленфосфоната цинка (ZnH4L•3H2O)n, на пластинчатый кристалл 2,2'-(этилендиокси)ди(этиламиний) трифторацетата CF3C(O)O‒ +H3N(CH2CH2O)2CH2CH2NH3+ ‒O(O)CCF3 и пленки моноэтаноламиниевой соли этилендиаминтетрауксусной кислоты [Н3NCH2CH2OH]+2[(OOCCH2)2NCH2CH2N(CH2COOH)2]2–. В качестве инструмента воздей¬ствия использовали электронный микроскоп Tescan VEGA II. Микрорельеф исследовали при увеличениях от 500х до 50000х. Съемку проводили при ускоряющем напряжении 20 кВ и 10 кВ и рабочем расстоянии 3–8 мм, использовали детекторы вторичных электронов (SE) и обратно рассеянных электронов (BSE). В качестве материала подложек для пленок использо-вали медно-никелиевый сплав и силикатное стекло. Облучение кристаллов и пленок произво-дили пучком электронов различной мощности, формируя участок размером 20  20 мкм. При малой мощности размеры участка составляют строго 20  20 мкм, поверхность остается сравнительно ровной. У тонких плёнок возрастание мощности или увеличение экспозиции при сохранении мощности вызывает увеличение размеров на величину от 5 до 34 %. Макси-мальное воздействие вызывает образование дефектов в виде трещин, вздутий, пузырей, от-верстий, кратеров. Подъем поверхности возрастает с увеличением дозы облучения.